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20W/m·K液态金属导热硅脂
20W/m·K液态金属导热硅脂

20W/m·K液态金属导热硅脂

20W/m·K液态金属导热硅脂
导热系数:20.0 W/m·K
材料形态:膏状液态金属
工作温度:-40℃ ~ 150℃
界面适用:铜、镀镍铜(不可用铝)
可靠性:长期稳定
导热系数:20.0 W/m·K
材料形态:膏状液态金属
工作温度:-40℃ ~ 150℃
界面适用:铜、镀镍铜(不可用铝)
可靠性:长期稳定
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20W/m·K等离子态彩石导热性硅脂 样品申请
产品介绍
20W/m·K 液态氨材质导电硅脂采用了材质基导电活性炭过滤器系统,导电水平同质性超过过去硅脂和常见材质膏系统。材质呈膏状,可在分子运动表层间彻底的浸入填隙,同质性减少表层热扩散系数,不断提高,散热解决学习效率。选于不断地高耗油率运营仪器,如的电脑服务器 CPU、GPU、AI 会加快IC芯片与车规级解决器。
⚠ 液态金属不可与铝材直接接触,建议搭配铜或镀镍铜表面使用。

特点优势
20W/m·K 超高导热性能
防范极端主义热流黏度,够满足高的性能计算系统市场需求。

界面极低热阻
液太材料结构类型无线网络确立快速热节点。

稳定膏状,不泵出、不干裂
高的温度长久的工作的下提高格局固定。

适配多类型封装器件
适用裸片、BGA、热效率摸块等发高热通量结构的。

施工工艺灵活
使用涂胶、丝印、刮涂,可以使用于系统智能工业生产加工。

高温可靠性强
在中高温与热重复条件下增强增强传热功能。

禁止接触铝材
等离子态合金金属与铝响应会所产生的腐蚀,需便用铜或镀镍外面。
应用方式
界面清洁:清除油污、灰尘、颗粒。

确认材料兼容性:仅用于铜/镀镍铜等金属界面,避免铝接触。

选择施工方式:点胶、刮涂或丝印。

均匀涂布:控制厚度,覆盖所有界面区域。

组件压合:通过散热器施加合适压力,促进材料铺展。

热稳定过程:设备工作温度下自动填隙并形成导热通道。

可靠性验证:热循环、功率老化、温升等测试。
应用领域
高性能计算(HPC / AI):CPU / GPU、AI 加速卡、推理与训练服务器、边缘计算设备
数据中心与通信设备:服务器散热模块、高功率光模块、通信基带处理器
汽车电子(非动力电池):ADAS 主控、车载计算平台(域控制器)、车规 MCU / SoC 热界面
工业与电源电子:IGBT 模块、工业控制器、高频功率模块
高热流密度消费电子设备:电竞主机、高性能笔记本、高功率充电器与适配器
产品物性表
楼盘 企事业单位 测式值 測試基准
热传导数值 W/m.k >20 ASTM D5470
水的电导率 S/m 3X106 ASTM D257
颜色图片 - 亮铝制 目视化管理
形态特征 - 膏状 -
溶解度 g/cc 4.5 ASTM D1475
粘合度 mPa·s 8000 DHR-2
释放率 % 0.001 125℃/24H
的工作体温 -40~600 NFION Test Method
结垢性 - 铝腐化 -
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